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东芝开发出首款搭载TSV技术的3D闪存

2017-07-21 08:59:01来源:智能电子集成

[摘要] 东芝内存公司(Toshiba)宣布,公司已开发出全球首款采用硅穿孔(TSV)技术的BiCS FLASH三维(3D)闪存,该产品采用每单元三位(三阶储存单元,TLC)技术。用于开发目的的原型机已于6月开始出货。

  东芝内存公司(Toshiba)宣布,公司已开发出全球首款采用硅穿孔(TSV)技术的BiCS FLASH三维(3D)闪存,该产品采用每单元三位(三阶储存单元,TLC)技术。用于开发目的的原型机已于6月开始出货。

  采用TSV技术制造的器件具有垂直电极和贯穿硅芯片模的通孔以提供连接,这种结构在降低功耗的同时,可实现高速数据输入和输出。其实际性能在之前推出东芝二维NAND闪存时已得到验证。

  结合48层3D闪存制程和TSV技术,使东芝内存公司能够成功增加产品程序设计带宽,同时获致低功耗。单一封装的功率效率是采用引线接合技术制造的同一代BiCS FLASH闪存功率效率的近两倍。TSV BiCS FLASH还在单一封装内实现了具有16颗粒堆栈式结构的1TB存储设备。

  东芝内存公司将推动采用TSV技术的BiCS FLASH的商业化,为包括高阶企业级SSD在内的储存应用提供理想的低延迟、高带宽和高IOPS/watt解决方案。

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[责任编辑:董义华]

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